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特效水基清洗劑 |
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發(fā)布日期:2013-06-05 | |
水基清洗劑在光學(xué)玻璃鏡片主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物,溶劑對(duì)其清洗能力很弱,所以鏡片加工過(guò)程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的,故而對(duì)水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國(guó)內(nèi)的光學(xué)玻璃專(zhuān)用水基清洗劑品種較少,很多外資企業(yè)都選用進(jìn)口的清洗劑。而目前本司已開(kāi)發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑,并成功地應(yīng)用在國(guó)內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠,清洗效果完全可以取代進(jìn)口產(chǎn)品,在腐蝕性(防腐性能)等指標(biāo)上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。 對(duì)于IPA慢拉干燥,需要說(shuō)明的一點(diǎn)是,某些種類(lèi)的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印,這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān),另一方面與清洗設(shè)備有較大的關(guān)系,尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好,需要設(shè)備廠家及用戶(hù)注意此點(diǎn)。 半水基清洗采用的清洗流程如下:半水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥。 此種清洗工藝同溶劑清洗相比最大的區(qū)別在于,其前兩個(gè)清洗單元:有機(jī)溶劑清洗只對(duì)瀝青或漆片具有良好的清洗效果,但卻無(wú)法清洗研磨粉等無(wú)機(jī)物;半水基清洗劑則不同,不但可以清洗瀝青等有機(jī)污染物,還對(duì)研磨粉等無(wú)機(jī)物有良好的清洗效果,從而大大減輕了后續(xù)清洗單元 中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢,氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在第一個(gè)清洗單元中無(wú)需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大,并且對(duì)后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用,所以第二個(gè)單元須市水漂洗,并且最好將其設(shè)為流水漂洗。 本品在M850基礎(chǔ)上升級(jí)改進(jìn),采用更先進(jìn)的防銹元素及配方研配而成。具有更優(yōu)異的防銹保護(hù)性,干燥環(huán)境下防銹可達(dá)12個(gè)月以上。被廣泛應(yīng)用于制造業(yè)中零部件的高標(biāo)準(zhǔn)防銹需要。 |
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